有色金属但产业化尚需时日物业
时间:2022-05-08 07:40:38 来源:潞城环保厂家 浏览量:5
有色金属:但产业化尚需时日 201 -0 -12 类别: 机构: 研究员:
[摘要]
事件:
但“14宝钢EB”却附有1.65亿股新华保险A股股票做担保 加州纳米技术研究院(CNSI)成功使用MoS2(辉钼,二硫化钼)制造出了辉钼基柔性微处理芯片,以MoS2为基础的微芯片只有同等硅基芯片的20%大小,功耗极低。单层的辉钼材料显示出良好的半导体特性,有些性能超过现在广泛使用的硅和石墨烯,有望成为下一代半导体材料。
观点:
1.辉钼性能优异的半导体材料,应用前景广阔辉钼基柔性微处理芯片最早由瑞士洛桑理工学院(EPFL)纳米电子与结构实验室提出,并有望成为下一代半导体材料,其功耗远低于硅材料,又能用以制作出尺寸更小的晶体管,并且这种新一代半导体材料具备能隙的特性也优于石墨烯。
该实验室所使用的方法早期曾用于石墨烯研究。研究员粉碎了折叠胶带之间的辉钼矿晶体,层层剥离,直到所有剩下都是单原子厚的薄片。然后,将这些钼片沉积在一种基质上,再增加一层绝缘材料,并使用标准光刻添加源极和漏极和栅极,这样就制成一个晶体管。辉钼矿晶体管具有电气流动性,类似的晶体管是用石墨烯纳米带制成。
辉钼矿是一种半导体,可以让电子跳跃越过,这种属性称为带隙,可用于数字晶体管。石墨烯没有带隙,难以把它制成半导体,石墨烯前景在于超高速模拟电路、电信和雷达等。辉钼矿的带隙特别有望用于更高效的柔性太阳能电池、电子产品或高性能数字微处理器等。
辉钼是钼的二硫化物。瑞士洛桑联邦高等理工学院的研究人员认为,辉钼在自然界中含量丰富,常用于冶炼合金等领域,但之前对它电学性能的研究却不多,而实际上单层辉钼材料具有良好的半导体特性。与现在广泛使用的硅材料相比,辉钼具有两个主要优点:一是达到同等效用的体积更小。只有0.65纳米厚的辉钼材料,电子在其中能像在2纳米厚的硅材料中那样自如移动,同时,现有技术还无法将硅材料制作得跟辉钼材料一样薄;二是能耗更低。据估计,辉钼制成的晶体管在待机状态下消耗的能量只是硅晶体管的约十万分之一。
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